CMARC
雙極脈沖磁控電弧涂層技術
HCVAC涂層系統采用匯成真空CMARC技術,獨有的磁場控制技術使電弧在靶材整個表面做快速的移動,涂層表面光滑致密,靶材表面被均勻刻蝕,優化了涂層結合力。
HCVAC系列涂層系統特點:
? 低溫至300℃,也具有出色的涂層附著力
? 新技術帶來了更快的批次周轉效率,優化了涂層生產效率
? 高精密度,在有效鍍層范圍內涂層厚度精確度可以控制在15%以內
? 所有HC系列涂層設備,可以方便的升級到PACVD涂層設備,平面多弧設備,平面磁控設備