連線式磁控濺射鍍膜生產線
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該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。 -
利用射頻離子化學氣相沉積技術，具有沉積速率快，成膜質量好的特點，可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。 -
該連續線共設計有十五個真空腔體，其中進口室一個、出口室一個、進口緩沖室一個、出口緩沖室一個、進口傳送室一個、出口傳送室一個和傳送室兩個；濺射鍍膜室七 個，每個濺射鍍膜室可以同時安裝四個陰極。 -
?抗反射導電膜連續磁控濺射生產線共設計有十五個真空腔體，濺射鍍膜室七個，每個濺射鍍膜室可以同時安裝四個陰極；高真空室采用插板閥隔離，設備配有26臺渦輪浮分子泵，13臺機械泵以獲得穩定的抽速和均勻的氣體分布。 -
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該生產線運用在薄膜太陽能電池上，透明導電膜用為減反射層和透明電極使用，可以提高太陽能的轉化效率，用AZO薄膜代替ITO薄膜，不僅可以降低生產成本，而且無毒環保，膜層性能更加穩定。 -
本設備廣泛運用在太陽能電池上，透明導電膜作為減反射層和透明電極使用，可以提高太陽能的轉換效率，用CIGS薄膜替代傳統薄膜，降低成本，無毒環保，膜層穩定，同時可以消除立式生產線無法大規模生產的弊端，可以大大提高生產量。 -
