運用HIPIMS和HIPIMS⁺技術制備出致密、無缺陷的涂層

       物理氣相沉積涂層（PVD 涂層）主要是由電弧蒸發或磁控濺射沉積，高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）是PVD硬質涂層的第三種方法（電弧離子鍍和磁控濺射為前兩種方法），HIPIMS技術證明，高電離的優勢 (如電弧蒸發)和磁控濺射的優勢相結合是可行的，其結果是制備出良好附著力以及致密、光滑的涂層。 

       HIPIMS技術非常適用于蝕刻，由于長達8兆瓦的峰值功率，HIPIMS濺射的原子將進入到基板給予致密，并且具有強大的黏結性柱狀層，運用HIPIMS技術涂層也是可行的，但是其沉積率低于目前的濺射技術。

       匯成真空已研制出一種可替代的HIPIMS技術，即HIPIMS⁺技術，此技術非常適用于涂層， HIPIMS⁺具有較高的沉積速率，可比電弧蒸發，這使得HIPIMS⁺技術可廣范應用于工業領域。HIPIMS⁺另一個優點是能更好的利用靶材，并在保持高硬度的同時擁有可調諧的應力，一些HIPIMS⁺涂層適用于低溫涂層，許多不同的物理氣相沉積涂層可應用于HIPIMS⁺技術，如TiN, TiAlN, TiCN, CrN, Cr₂N。

       HIPIMS⁺經測試表明適用于模具，模塊，銑刀片，螺紋車削刀片，銑刀和水龍頭，HIPIMS和HIPIMS⁺技術都能制備出致密，無缺陷的涂層，這兩種技術都可以在匯成真空生產的真空鍍膜設備上應用，當然也可以在匯成真空現有的PVD涂層設備上進行升級。