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    矩形陰極電弧/磁控濺射復合型鍍膜設備
    產品簡介
    該系列設備采用矩形平面陰極電弧離子鍍膜技術和直流磁控濺射、中頻磁控濺射技術、脈沖偏壓技術結合在同一鍍膜機上,這種模式已成為當前五金類離子鍍膜主流技術。
    >> 咨詢熱線:13631759325

           矩形陰極電弧鍍膜設備采用矩形平面陰極電弧離子鍍膜技術和直流磁控濺射、中頻磁控濺射技術、脈沖偏壓技術結合在同一鍍膜機上,這種模式已成為當前五金類離子鍍膜主流技術。它既可以單獨用電弧或單獨用磁控濺射鍍膜,也可以利用兩種技術的優點在鍍膜過程不同階段發揮作用,比如在鍍膜初始利用電弧的高能粒子轟擊清洗和打底層,以增強膜/基結合力;隨后用中頻濺射鍍中間主層,以得到細膩光滑組織;再用直流濺射鍍頂層金等。該設備還可配離子源,可滿足多功能鍍膜的需要。該設備主要廣泛應用于工模具和中、高端衛浴產品鍍膜。

           可通過觀察窗觀察鍍膜狀況,根據不同工藝要求,可利用磁控濺射裝置或矩形陰極電弧裝置對裝載在行星式公自轉架上的鍍膜產品進行濺射鍍膜或矩形陰極電弧鍍膜。在真空室抽真空的同時,打開加熱裝置,對真空室進行加溫,加溫溫度可根據產品的不同工藝進行設置。

    規格 Ф1000×1200mm Ф1250×1350mm Ф1500×1200mm Ф1600×1200mm
    總功率 50KW 60KW 65KW 70KW
    制膜種類 裝飾膜(氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻膜等)、金屬膜、反應膜等。
    真空室結構 立式前開門結構、后置抽氣系統、雙層水冷腔室
    真空系統 擴散泵/分子泵、羅茨泵、維持泵、機械泵
    工件旋轉方式 行星式公自轉,工件烘烤溫度室溫至450℃可控可調
    靶類型 矩形磁控靶,磁控靶數量可根據不同鍍膜工藝和客戶的需求進行選配
    控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
    備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做

     

    該設備主要廣泛應用于工模具和中、高端衛浴產品鍍膜,當前五金類離子鍍膜主流技術。

    衛浴 衛浴1 工具 工具1

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