HCMRC系列采用模塊化設計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產工具。 通過我們各種技術的獨特組合，可以生產高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。
不銹鋼帶卷繞鍍膜設備采用公司新開發的磁控濺射鍍膜技術、陰極電弧離子鍍膜技術及獨特設計的離子源輔助沉積鍍膜技術等多種技術組合，成功應用在大卷徑寬幅高真空連續卷繞鍍膜設備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴展應用范圍。
模塊化設計概念，帶材糾偏系統、等離子體預處理、磁控濺射系統、在線測量和工藝控制系統、電子束蒸發靈活組合。膜層均勻性好，沉積效率高，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續鍍膜生產線的最佳選擇。
特點：
鍍膜設備類型：
—空氣-空氣
(1) 進口和出口區配備動態鎖定輥系統，確 保帶材不間斷運動
(2) 帶材緩沖器、連接和分離裝置以及放置 于鍍膜機前、后端大氣中的放卷機和收 卷機，以保證連續生產
(3) 生產周期僅受限于靶材/真空腔體內蒸 發物儲存量
—分批式
(1) 真空工藝區入口和出口處連接的卷軸裝 載鎖定腔體，使用帶材閥隔開
(2) 可在不中斷工藝真空的前提下裝載和卸 載卷軸
(3) 生產周期為 1 卷軸的時間，然后停止， 進行卷軸更換；帶材廢料長度約為工藝 部分的兩倍
(4) 電子束工藝配備額外的檔板，用以補償 卷軸更換
鍍膜模式：
—單面鍍膜
(1) 所有鍍膜工具均位于帶材的一側
(2) 使用電子束 (EB) 工藝時，（一般情況 下）帶材的底側將被鍍膜
—雙面鍍膜
(1) 鍍膜工具均位于帶材的一側，卷材改變走帶方向
(2) 需要二次鍍膜與傳動裝置配備
—非接觸式鍍膜選項針對敏感的光學鍍膜，提供非接觸式機器概念。
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型號 |
HCMRC300 |
HCMRC1250 |
HCMRC1500 |
HCMRC2500 |
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寬幅 |
300mm |
1250mm |
1500mm |
2500mm |
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鍍膜模式 |
單面鍍膜和雙面鍍膜 |
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帶材材料 |
鋁、鋼、不銹鋼、碳鋼 |
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卷徑 |
Max.φ3m |
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帶材速度 |
0.1m～20m/min |
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帶材厚度 |
0.2mm～1.5mm |
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金屬帶（鋁卷，銅卷，不銹鋼卷，鋼卷）
裝飾性鍍膜
以最低的工藝成本讓材料表面有高品質的金屬質感，無論是表面顏色層還是干涉顏色層，都可以形成范圍很
廣的不同顏色。
防腐蝕鍍膜
采用PVD技術在鋼帶正、反面有效蒸鍍鋅或鎂，提高防腐蝕性能。