光電薄膜設備
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該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。 -
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專門為層數不多但要求產能大、效率高的光學薄膜產品鍍膜生產而設計，適用于玻璃和塑膠光學鏡片、眼鏡片AF、AS膜的鍍膜生產，也適用于手機視窗(玻璃或塑膠)、塑膠片材彩色光學膜的制備。 -
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旋轉陰極裝置與行內普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高。
可客制化的基板工件架結構定制，給客戶產品擺放達到最大的利用空間。
全自動一體的提拉升降的轉架裝置，大幅度減少機器開關門時間，大大提高了生產效率與工藝穩定性。 -
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該設備實現了在低溫下以良好的再現性制造波長穩定的高品質光學薄膜，以及包括裝飾膜在內的功能性薄膜、氮化膜等，應用于LED、光學示波器、電子部件、數碼產品等電子產品。 -
利用射頻離子化學氣相沉積技術，具有沉積速率快，成膜質量好的特點，可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。