什么是PACVD技術?
       PACVD是等離子體輔助化學氣相沉積的縮寫，有時也寫作PECVD，E代表增強的意思。在PVD過程中，涂層材料是從固體形式蒸發得到；而在PACVD過程中，涂層是從氣體形式得到，氣體，如HMDSO（六甲基二甲硅醚）在等離子體作用下，大約200 ºC時發生裂解，非反應氣體，如氬氣，可以使離子沉積到工件表面并形成很薄的涂層，類金剛石（DLC）涂層就是PACVD技術制備的很好的例子，通常應用于摩擦學和汽車行業。

       等離子體輔助化學氣相沉積 (PACVD) 用于沉積 DLC 涂層， 通過等離子體激發和電離，激活工藝中的化學反應，借助此工藝，我們可以在約 200 °C 的低溫下使用脈沖輝光或高頻放電進行沉積，用 PACVD 生成的類金剛石涂層具有摩擦系數低和可擴展的表面硬度特性。

工藝基礎  (PACVD)

優點：
• 高耐磨性
• 低摩擦系數
• 耐腐蝕
• 即使兩個涂層表面相對摩擦，每個涂層都能夠提供最佳的性能和可靠性

典型應用：
• 摩擦學應用
• 塑料加工
• 光學 行業
• 半導體行業
• 汽車零部件
• 工程
• 賽車部件